产品名称：工艺气体流量比例控制模块简介：半导体工艺专用多通道气体流量比例控制模块，实现多种工艺气体的精准配比与稳定输送，保障薄膜沉积 / 刻蚀工艺一致性。技术规格
- 控制通道：4 路独立 MFC 联动控制
- 流量精度：±0.5% F.S.
- 配比精度：≤±1%
- 通信接口：Profibus-DP/DeviceNet
- 材质：316L EP 级不锈钢气路 + 防腐涂层
- 适用介质：高纯工艺气体（SiH4、NH3、CF4、O2、Ar 等）功能特点
- 多气体同步比例控制，响应快速
- 流量实时监控与异常报警
- 抗腐蚀、无泄漏、低残留
- 支持配方存储与一键调用应用场景：CVD/PVD/ALD 工艺气体配比、刻蚀机多气体混合控制、外延生长气体流量调节、半导体厂高纯气体分配系统。
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 
AMAT 0190-36349 