产品名称：真空腔体内衬屏蔽组件产品简介：安装于真空腔体内壁的屏蔽内衬，用于保护腔体本体、减少等离子体腐蚀、降低颗粒污染，延长腔体使用寿命。技术规格
- 材质：高纯铝合金 / 碳化硅复合材料
- 耐温范围：-20℃～600℃
- 表面粗糙度：Ra≤0.2μm
- 适用真空度：≤1×10⁻⁹ Torr
- 厚度：3～8mm功能特点
- 有效隔离等离子体直接冲刷腔体壁
- 耐腐蚀、耐化学气体侵蚀
- 低释气、高洁净，减少制程污染
- 结构贴合腔体内壁，安装稳固
- 便于拆卸更换，降低维护成本应用场景
- 等离子体刻蚀、PECVD 腔体内部屏蔽
- 半导体高真空制程腔体内衬保护
- 各类真空反应腔内壁防护系统
AMAT 0050-41405 
AMAT 0050-07527 
AMAT 0020-34587 