产品名称：高纯石英真空腔室内衬产品简介：用于半导体刻蚀、沉积腔室内部防护，隔离工艺等离子体与腔室金属壁，减少污染。技术规格：
- 材质：高纯熔融石英（SiO₂ > 99.999%），金属杂质 < 1ppm
- 尺寸：内径 450mm，高度 300mm，壁厚 5mm
- 表面处理：内壁抛光 Ra < 0.2μm，外壁磨砂
- 温度范围：-196°C 至 1200°C
- 耐腐蚀性：耐受 HF、ClF₃、NF₃ 等离子体侵蚀功能特点：
- 高纯度：无金属离子释放，避免晶圆污染
- 抗热冲击：耐受 1000°C 冷热循环，无开裂
- 易清洁：表面光滑，等离子体清洗后无残留
- 寿命：≥10,000 小时工艺时间，可重复清洗使用应用场景：
- 干法刻蚀腔室（DPS、MxP、AdvantEdge）
- PECVD、ALD 沉积腔室
- 离子注入、扩散工艺腔室
- 半导体厂工艺腔室维护、翻新
AMAT 6C50SHCS 
AMAT DIP-510-005 
AMAT 0041-76691 