产品名称:Aura 2000LL 光刻胶灰化系统产品简介:先进单晶圆负载锁式等离子灰化系统,用于半导体制造中超洁净、无损伤光刻胶去除。技术规格
- 适用晶圆:6 英寸、8 英寸
- 结构:单晶圆、负载锁、冷却站
- 腔体:水冷工艺腔体与灯组
- 气体控制:四路 MFC 集成气路箱
- 产能:每小时 20–40 片功能特点
- 无损伤光刻胶去除,洁净度极高
- 支持去边、非氧化金属灰化
- 终点检测,工艺精确可控
- 自动晶圆传输应用场景
- 先进半导体制造光刻胶去除主设备
- MEMS、高端器件清洗去边
- 高纯度、低损伤清洗环境
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产品Gasonics 2000 LL 02-1322
品牌Gasonics
型号2000 LL 02-1322
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