产品名称：半导体设备等离子体工艺腔体电极绝缘支架产品简介：这是应用材料公司（AMAT）推出的原厂标准备件，属于半导体等离子体工艺腔体的核心绝缘结构件，专为腔体内部电极的固定与绝缘设计，实现电极的机械支撑与电气绝缘双重功能，有效隔绝电极与金属腔体之间的电气传导，同时为电极提供稳定的安装定位，保障等离子体工艺的均匀性和稳定性，适配 AMAT 多款等离子体刻蚀、沉积设备的腔体电极系统。技术规格：
- 核心基材：高纯度氮化铝陶瓷（AlN）
- 辅助配件：钛合金固定卡扣
- 外形尺寸：长 85mm× 宽 40mm× 高 60mm
- 尺寸公差：±0.01mm
- 热导率：180 W/(m・K)
- 绝缘电阻：≥10¹⁵ Ω（室温真空环境）
- 工作温度：-40℃至 450℃
- 抗等离子体腐蚀：耐受高功率氟基、氩基等离子体溅射
- 安装适配：AMAT 等离子体腔体上电极 / 下电极固定位功能特点：
- 采用高纯度氮化铝陶瓷基材，兼具优异的电气绝缘性能和高热导率，可快速传导电极工作产生的热量，避免电极过热变形
- 钛合金固定卡扣强度高、抗腐蚀，与陶瓷支架无缝配合，实现电极的牢固固定，防止工艺过程中电极偏移
- 精密加工的外形尺寸，与腔体电极固定位精准匹配，安装后无间隙，保障等离子体电场的均匀性
- 陶瓷基材经特殊抗腐蚀处理，耐受高功率等离子体溅射，在长期工艺过程中无磨损、无开裂，使用寿命长
- 整体组件低放气率，符合半导体超高真空工艺要求，不影响腔体内部真空环境和工艺气体纯度应用场景：
- 适配应用材料 Centura 系列等离子体刻蚀机、Endura 系列 PVD 设备的工艺腔体电极系统
- 应用于半导体 8 英寸、12 英寸晶圆制造的硅刻蚀、金属刻蚀、金属沉积等等离子体工艺环节
- 可作为半导体等离子体设备腔体电极的原厂绝缘支撑备件，用于设备日常维护、电极更换与腔体结构修复
AMAT 0050-33303 
AMAT 0020-43681 
AMAT 0020-40222 
AMAT 0020-34112 