产品名称：半导体设备真空腔体抽气口过滤芯组件产品简介：这是应用材料公司（AMAT）推出的原厂标准真空系统配件，属于半导体真空工艺腔体抽气系统的核心过滤部件，专为腔体抽气过程中的颗粒过滤设计，实现真空抽气与颗粒截留双重功能，有效过滤工艺过程中产生的晶圆颗粒、工艺副产物颗粒，防止颗粒进入真空抽气系统造成设备污染和损坏，同时保障腔体抽气效率，适配 AMAT 多款真空工艺腔体的抽气系统。技术规格：
- 过滤基材：多孔不锈钢烧结滤膜（316L）
- 过滤精度：0.1μm
- 滤芯外径：60mm
- 滤芯长度：100mm
- 孔隙率：45%
- 工作温度：-30℃至 300℃
- 适配真空度：≤1×10⁻⁹ mbar
- 抽气流量：≥200L/s（压差 0.1mbar 时）
- 抗腐蚀性能：耐受氟基、氯基工艺副产物腐蚀
- 密封结构：氟橡胶 O 型圈密封
- 安装适配：AMAT 真空工艺腔体 KF40 抽气口功能特点：
- 采用 316L 不锈钢多孔烧结滤膜，过滤精度达 0.1μm，可高效截留工艺过程中产生的微小颗粒，防止颗粒进入分子泵、罗茨泵等真空抽气设备，保护真空系统
- 45% 的高孔隙率设计，在高效过滤的同时保障抽气流量，不影响腔体的抽气效率和真空度建立速度
- 不锈钢滤膜强度高、可反复清洗，经真空高温清洗后可再次使用，降低设备维护成本
- 氟橡胶 O 型圈密封结构，与抽气口精准贴合，实现真空密封，防止未经过滤的气体直接进入抽气系统
- 整体结构耐温、抗腐蚀，可耐受工艺副产物的腐蚀和腔体的高低温交变环境，长期使用无变形、无泄漏
- 安装与拆卸便捷，适配设备日常维护的快速拆装需求，提高维护效率应用场景：
- 适配应用材料 Centura、Endura 系列刻蚀、沉积设备的真空工艺腔体抽气系统
- 应用于半导体 8 英寸、12 英寸晶圆制造的等离子体刻蚀、PVD、CVD 等工艺环节的腔体抽气口
- 可作为半导体真空设备抽气系统的原厂过滤备件，用于设备日常维护、滤芯清洗与更换、真空系统改造
- 适用于半导体晶圆制造生产线中各类产生工艺颗粒的真空工艺腔体抽气系统
AMAT 0050-33303 
AMAT 0020-43681 
AMAT 0020-40222 
AMAT 0020-34112 