• 产品名称：气体流量控制器（Mass Flow Controller, MFC）
• 产品简介：该产品是半导体工艺中用于精准控制工艺气体流量的精密仪器，可对多种腐蚀性与惰性工艺气体进行高精度流量调节，保障工艺过程中气体比例的稳定性，直接影响半导体薄膜的厚度均匀性与图形精度。
• 技术规格
  • 适配气体类型：H2、O2、N2、Ar、CF4、SF6 等多种半导体常用工艺气体，支持气体类型自定义校准
  • 流量量程：0-500sccm（标准立方厘米每分钟），部分型号可扩展至 0-2000sccm
  • 流量精度：±1% 满量程，重复性 ±0.2% 满量程，满足先进工艺对气体流量的高精度要求
  • 工作压力范围：0.1MPa - 0.5MPa，可适配不同工艺腔室的压力环境
  • 响应时间：≤1 秒，可快速跟随工艺对气体流量的动态调整需求
  • 输出信号：4-20mA 模拟信号与 RS232 数字信号，可与设备的主控系统实时通信
  • 耐压等级：1.0MPa，具备良好的抗压性能，防止气体泄漏
• 功能特点
  • 采用热式质量流量测量原理，测量结果不受气体温度、压力变化的影响，测量稳定性高
  • 内置温度补偿模块，在 - 10℃至 60℃的环境温度下仍能保持测量精度
  • 具备气体泄漏检测与过流保护功能，当检测到异常时可自动切断气体通路，保障工艺安全
  • 支持在线校准功能，无需拆卸即可完成校准操作，提升设备的维护效率
• 应用场景：适用于半导体制造中的 CVD、PVD、刻蚀、离子注入等工艺，适配 AMAT 的 Endura、Centura 等系列设备，广泛应用于逻辑芯片、功率器件、MEMS 传感器等产品的生产，尤其在先进工艺节点的薄膜沉积与图形刻蚀中，对保障工艺重复性与产品良率至关重要。