• 产品名称：中功率射频电源模块
• 产品简介：该射频电源模块是应用材料公司为半导体等离子体工艺设备研发的核心功率部件，能将工频交流电转换为稳定的射频交流电，为等离子体的产生与维持提供持续、稳定的射频能量，具备输出功率稳定、谐波含量低、抗干扰能力强等特点，是保障等离子体工艺稳定进行的关键设备，适配中功率等离子体刻蚀、沉积等工艺。
• 技术规格
  • 工作频率为 13.56MHz，为半导体等离子体工艺标准射频频段。
  • 额定输出功率为 1000W，输出功率调节范围为 0-1000W，调节精度为 ±1%。
  • 输入电压为 AC 200-240V，频率 50/60Hz，功率因数大于 0.95，电能利用率高。
  • 输出阻抗为 50Ω，与射频匹配网络标准阻抗一致，适配性强。
  • 工作温度范围为 0℃至 45℃，采用风冷散热方式，散热效率高。
• 功能特点
  • 具备自动功率控制功能，能实时监测负载变化并调整输出功率，保持功率稳定。
  • 谐波抑制能力强，谐波含量低于 - 60dB，减少对设备其他部件的电磁干扰。
  • 内置完善的保护功能，包括过流、过压、过温、负载短路保护，保障模块安全运行。
  • 支持远程通信与控制，具备 RS485、Ethernet 接口，可通过设备主控制系统实现参数调节与状态监控。
  • 输出纹波小于 1%，确保射频能量的稳定性，提升等离子体工艺的均匀性。
• 应用场景：广泛应用于半导体中功率等离子体工艺设备，如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、低损伤等离子体刻蚀设备、等离子体清洗设备等，为等离子体的产生与维持提供稳定的射频能量，适配 200mm、300mm 晶圆的薄膜沉积、浅槽刻蚀、晶圆清洗等工艺，保障等离子体的稳定性与工艺的一致性。