产品名称：工艺腔室上屏蔽罩组件产品简介：应用于半导体等离子体工艺腔室的金属防护部件，用于屏蔽射频电场、均匀化等离子体分布、保护腔室顶部结构，降低工艺污染风险。技术规格
- 材质：高纯度铝合金 / 钛合金，表面阳极氧化处理
- 适配机型：Endura、Centura 系列 PVD / 刻蚀设备
- 结构：一体式精密成型，配合腔室精准公差
- 洁净度：无颗粒析出，满足高洁净工艺要求功能特点
- 耐高温、耐等离子体冲刷，使用寿命长
- 电场屏蔽效果优异，保障工艺稳定性
- 安装定位精准，无松动、无偏移
- 低金属污染，适配先进制程工艺
- 表面处理致密，抗腐蚀能力强应用场景
- 物理气相沉积（PVD）工艺腔室
- 干法刻蚀设备等离子体腔
- 半导体前道制造设备核心腔室
- 设备预防性维护与易损件更换
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 
AMAT 0190-36349 