产品名称：真空系统压力控制模块产品简介：半导体真空系统的专用压力控制单元，集成压力采集、调节与反馈功能，实现真空腔室压力的精准闭环控制，保障真空环境稳定，适配不同工艺压力需求。技术规格
- 控制范围：覆盖高真空至中真空全区间
- 控制精度：压力控制误差≤±0.5% FS
- 调节方式：自动闭环调节 + 手动调节双模式
- 输出信号：4–20mA 模拟信号 + 数字信号
- 通信接口：支持设备总线，远程监控与参数设置功能特点
- 压力控制精准，响应速度快，实时稳定
- 具备超压、欠压保护，异常状态自动报警
- 抗干扰能力强，适配复杂真空系统环境
- 支持多工艺参数自适应，适配不同制程
- 模块化设计，安装、维护便捷应用场景
- 半导体工艺腔室真空压力闭环控制
- 真空传输系统、排气系统压力调节
- 沉积、刻蚀、离子注入设备真空控制
- 晶圆厂真空系统维护与故障排查
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 