产品名称：AMAT 0200-40002 聚焦环（Focus Ring）产品简介：半导体刻蚀 / 沉积腔体专用陶瓷聚焦环，用于约束等离子体分布，提升晶圆工艺均匀性，适配 300mm 晶圆制程设备。技术规格
- 材质：高纯度氧化铝陶瓷（Al₂O₃，纯度≥99.5%）
- 尺寸：外径 300mm，内径 200mm，厚度 15mm，平面度≤0.02mm
- 表面处理：精密抛光，粗糙度 Ra≤0.8μm
- 耐温：最高工作温度 800℃，热膨胀系数≤4.5×10⁻⁶/℃
- 适配腔体：AMAT DPS、Centura 刻蚀腔体功能特点
- 等离子体约束：精准约束等离子体运动轨迹，提升晶圆边缘工艺均匀性
- 高耐蚀性：陶瓷材质耐受氟基、氯基等强腐蚀性工艺气体
- 高纯度：低金属杂质析出，避免晶圆污染
- 长寿命：抗等离子体冲刷，使用寿命≥1000 工艺小时应用场景：300mm 晶圆干法刻蚀设备、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、半导体先进制程腔体配件。
AMAT 0190-25291 
AMAT 1410-01366 
AMAT 0040-01849 
AMAT 0021-36302 