产品名称：陶瓷屏蔽环组件产品简介：半导体工艺腔体专用高纯度陶瓷屏蔽环，用于等离子体约束、电场均匀化与腔体防护，适配 300mm 制程腔体。技术规格
- 材质：高纯度氧化铝陶瓷（Al₂O₃），纯度≥99.6%
- 尺寸：外径 320mm，内径 260mm，厚度 12mm
- 平面度：≤0.02mm，表面粗糙度 Ra≤0.6μm
- 耐温：最高工作温度 850℃
- 绝缘性能：绝缘电阻≥10¹⁴Ω・cm功能特点
- 等离子体均匀约束，提升晶圆边缘制程一致性
- 高耐腐蚀性，耐受氟基、氯基等离子体长期冲刷
- 低杂质析出，避免晶圆金属污染
- 结构稳定，热膨胀系数小，高温不变形应用场景
- 300mm 晶圆干法刻蚀设备腔体
- PVD、CVD、ALD 等离子体工艺腔体
- 半导体先进制程腔体屏蔽与绝缘
AMAT 1037-60969 
AMAT 0050-37273 
AMAT 0010-01231 
AMAT 0140-01620 