产品名称:高纯陶瓷聚焦环产品简介:刻蚀腔体等离子体约束用高纯度陶瓷聚焦环,用于均匀等离子体分布,提升晶圆边缘制程均匀性。技术规格
- 材质:高纯氧化铝陶瓷,纯度≥99.6%
- 尺寸:外径 300mm,内径 220mm,厚度 12mm
- 平面度:≤0.02mm
- 耐温:最高 850℃
- 绝缘电阻:≥10¹⁴Ω・cm功能特点
- 等离子体约束均匀,改善边缘效应
- 高耐等离子体冲刷,寿命长
- 低杂质析出,不污染晶圆
- 热稳定性好,高温不变形应用场景:300mm 晶圆干法刻蚀腔体;等离子体增强沉积设备。
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分类Amat
产品AMAT 0200-01991
品牌AMAT
型号0200-01991
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