产品名称：静电卡盘（ESC）W2 系列晶圆承载基座产品简介：应用材料（AMAT）专为 300mm 晶圆制程设计的高性能静电卡盘，集成静电吸附、精准控温与晶圆定位功能，是 PVD、CVD、刻蚀等工艺的核心承载部件，保障晶圆在高真空、等离子体环境下稳定夹持与均匀受热。技术规格
- 晶圆适配：300mm 标准晶圆，兼容 Notch/Flat 定位
- 吸附类型：双区静电吸附（Coulombic 型），吸附力 0.5–3.0 kPa 可调
- 温控范围：20℃–400℃，控温精度 ±0.5℃
- 材质：高纯氧化铝陶瓷基底，表面氮化铝涂层，绝缘电阻≥10¹⁵Ω・cm
- 真空兼容：漏率≤1×10⁻⁹ Torr・L/s，耐受 1×10⁻⁸ Torr 超高真空
- 供电：DC 24V，吸附电压 0–5kV 可调，功耗≤150W功能特点
- 双区独立吸附：实现晶圆中心与边缘分区控力，减少翘曲与应力
- 高精度温控：内置多层加热 / 冷却通道，热均匀性≤±1%，保障成膜 / 刻蚀均匀性
- 无损伤夹持：静电吸附无机械接触，避免晶圆边缘划伤、崩边
- 耐等离子体：陶瓷材质耐受氟基、氯基等离子体冲刷，使用寿命≥5000 小时
- 快速响应：吸附 / 解吸附时间≤500ms，适配高速制程节拍
- 故障诊断：内置电压、电流、温度监测，支持过压、过流、过热报警应用场景：300mm 晶圆 PVD 金属沉积、CVD 介质膜沉积、干法刻蚀、离子注入、ALD 原子层沉积等先进制程；适配 AMAT Centura、Endura、Producer 系列设备。
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 
AMAT 0190-36349 