产品名称：腔体内部工艺屏蔽罩组件产品简介：安装于工艺腔体内部的高精度屏蔽部件，用于隔离等离子体、均匀气流分布、减少副产物沉积，保护腔体壁面并提升制程均匀性。技术规格
- 材质：高纯碳化硅 SiC / 阳极氧化铝复合材料
- 表面处理：抗等离子体喷涂 + 精密抛光
- 适用温度：≤600℃
- 尺寸公差：±0.02mm
- 洁净等级：SEMI 超高洁净级
- 适配腔体：200mm/300mm 标准制程腔体功能特点
- 抗等离子体刻蚀与溅射，使用寿命长
- 低放气、低金属析出，杜绝晶圆污染
- 气流导向均匀，提升工艺均匀性
- 安装定位精准，更换便捷
- 降低腔体维护频次，提高设备稼动率应用场景：介质 / 导体刻蚀腔体、PVD/CVD/ALD 沉积腔体、等离子体清洗设备、先进封装制程腔体。
AMAT QS-100NP-MP 
AMAT 0020-26158 
AMAT 0200-09768 