产品名称：石英聚焦环（MXP+ Poly 工艺专用）产品简介：等离子体刻蚀 / 沉积工艺用高纯石英聚焦环，约束等离子体分布均匀性。技术规格
- 材质：高纯熔融石英（纯度≥99.99%）
- 耐热冲击：≥1000℃
- 平整度：≤0.02mm
- 适配腔体：MXP + 系列制程腔功能特点
- 高纯材质无金属污染，不影响晶圆良率
- 耐等离子体刻蚀，使用寿命长
- 均匀约束等离子体，提升片内均匀性
- 精密成型，尺寸一致性高应用场景
- Poly 硅刻蚀、介质沉积工艺
- 应用材料 MXP+、Centura 设备反应腔
- 先进制程栅极、接触孔工艺
AMAT 0190-03068-001 
AMAT 0200-36122 
AMAT 0100-09126 
AMAT 0100-02715 