产品名称：高纯工艺气体过滤器组件产品简介：半导体高纯气体输送系统的关键净化部件，采用多层过滤介质与纳米级过滤技术，去除工艺气体中的颗粒、水分与金属离子杂质，保障制程纯度。技术规格
- 过滤精度：0.001μm（颗粒），≤1ppb（水分 / 氧）
- 工作压力：1.5MPa（最大）
- 工作温度：-20℃～60℃
- 接口规格：1/4" VCR（面密封），高纯无泄漏
- 材质：316L 不锈钢（外壳），PTFE（密封件）
- 过滤介质：聚四氟乙烯（PTFE）膜 + 活性炭吸附层
- 流量范围：500sccm～5slm功能特点
- 超高过滤精度，满足先进制程气体纯度要求
- 低压降设计，不影响气体流量控制精度
- 耐强腐蚀性工艺气体（如 Cl2、NH3、SiH4）
- 快装式结构，便于过滤器芯更换
- 内置压差指示器，实时监控过滤状态应用场景
- 半导体高纯工艺气体（SiH4、NH3、O2）输送管线
- CVD、Etch 设备气体面板（Gas Panel）前置过滤
- 晶圆清洗设备的高纯化学气体净化
AMAT 0140-16621 
AMAT 0050-30838 
AMAT 0020-21885 
AMAT 03-83601-00 