产品名称：工艺气体流量控制模块产品简介：用于半导体制程高纯工艺气体的精密计量、调节与稳定输出模块，为 CVD、刻蚀、掺杂等工艺提供稳定可控的气体流量供给。技术规格
- 控制方式：闭环比例控制
- 流量范围：1sccm～10slm
- 控制精度：±0.5% FS
- 响应时间：≤20ms
- 接液材质：316L EP 不锈钢
- 密封材质：FFKM 全氟醚
- 工作温度：-10℃～80℃功能特点
- 流量输出稳定，无超调、无波动
- 耐腐蚀，兼容硅烷、氨气、氟化碳类等腐蚀性气体
- 快速响应，满足动态工艺气体配比需求
- 具备超流量、超温、过压保护
- 支持模拟量与数字通信双模式控制应用场景
- 半导体工艺气体输送与混气系统
- CVD、ALD、刻蚀、离子注入设备气路
- 实验室与量产线气体精密控制系统
AMAT 0050-41405 
AMAT 0050-07527 
AMAT 0100-35057 
AMAT 0020-34587 