产品名称：腔体中心固定支撑组件产品简介：半导体真空工艺腔内部高精度定位与承重结构件，用于关键核心部件同轴固定、受力均衡承载与同轴度保障，确保腔内部件长期运行不偏移、不变形。技术规格
- 主体材质：高纯度阳极氧化铝 / 316L 不锈钢可选
- 加工精度：平面度≤0.02mm，同轴度≤0.01mm，表面粗糙度 Ra≤0.8μm
- 承重能力：静态承重≥50kg，长期负载无塑性变形
- 环境适配：耐真空腐蚀、耐等离子体冲刷、耐高温 150℃
- 尺寸适配：标准兼容 200mm/300mm 工艺腔体功能特点
- 高刚性结构设计，长期运行无松动、无形变
- 精准中心定位，保证晶圆与电极 / 喷淋头同轴
- 拆装标准化，维护便捷，重复安装精度一致
- 表面钝化 / 阳极氧化处理，降低颗粒污染风险
- 兼容多种腔体密封与真空环境应用场景
- PVD 物理气相沉积、CVD 化学气相沉积腔体
- 蚀刻腔体、离子注入腔体、热处理腔体内部核心支撑
- 静电吸盘、加热基座、靶材组件的中心定位固定
AMAT 3750-01013 
AMAT 0010-24299 
AMAT 326426R06-PJ 
AMAT 0200-08346 