产品名称：腔体屏蔽内衬组件产品简介：真空工艺腔内部防护内衬，用于隔离等离子体、防止腔壁腐蚀、吸收副产物、降低微粒污染，延长腔体寿命并稳定工艺重复性。技术规格
- 材质：高纯铝、陶瓷、石英、碳化硅可选
- 表面处理：阳极氧化 / 钝化 / 涂层处理
- 耐热冲击：≥500℃冷热冲击不开裂
- 装配方式：卡扣 / 螺栓固定，密封贴合
- 尺寸精度：配合间隙≤0.1mm功能特点
- 有效阻挡等离子体直接冲刷腔体主体
- 吸附反应副产物，降低晶圆污染
- 提升工艺稳定性与批次一致性
- 更换成本低，保护昂贵腔体主体
- 高纯度材质，无金属析出污染应用场景
- 介质蚀刻、硅蚀刻、金属蚀刻腔体
- PVD/CVD/ALD 等薄膜沉积腔体
- 先进制程高洁净度要求工艺
AMAT 3750-01013 
AMAT 0010-24299 
AMAT 326426R06-PJ 
AMAT 0200-08346 