产品名称：射频信号匹配控制模块产品简介：射频等离子体工艺核心控制部件，用于射频电源与腔体负载的阻抗匹配调节，实时优化射频功率传输效率，稳定等离子体状态，提升薄膜沉积与蚀刻工艺均匀性。技术规格
- 频率范围：400kHz～13.56MHz
- 匹配速度：≤10ms，动态响应优异
- 功率适配：500W～5kW 射频功率
- 控制方式：自动匹配 + 手动微调双模式
- 接口：RS485 / 模拟量双通信接口功能特点
- 自动快速匹配，适应不同工艺负载变化
- 射频功率传输效率≥95%，降低能耗
- 稳定等离子体状态，提升工艺均匀性
- 多重保护：过功率、过温、失配自动保护
- 兼容多代射频电源，通用性强应用场景
- PECVD、ICP 蚀刻、RIE 蚀刻设备
- 射频等离子体清洗、表面改性工艺
- 半导体晶圆制造与先进封装工艺
AMAT 3750-01013 
AMAT 0010-24299 
AMAT 326426R06-PJ 
AMAT 0200-08346 