产品简介：半导体射频等离子体工艺专用核心控制部件，实时采集射频功率、电压、电流信号，动态调节射频电源与腔体负载的阻抗匹配，保障等离子体稳定与功率高效传输。技术规格
- 工作频段：13.56MHz/2MHz/400kHz 多频段兼容
- 监测范围：功率 0–10kW，电压 0–5kV，电流 0–20A
- 匹配响应：≤10ms，动态调节精度 ±1%
- 输出信号：0–10V 模拟量 + RS485 数字信号
- 供电：24VDC，防护等级 IP20功能特点
- 实时射频参数监测，数据无失真、无延迟
- 自动快速阻抗匹配，功率传输效率≥95%
- 多重保护：过功率、过压、失配、过温自动切断
- 抗等离子体强电磁干扰，信号稳定无漂移
- 模块化设计，兼容 Centura、Endura 全系列设备应用场景
- PECVD、ICP/RIE 蚀刻、等离子体清洗设备
- 射频功率闭环控制与工艺稳定性监测
- 12 英寸先进制程晶圆制造射频工艺系统
AMAT AXF-600-423-5/8 
AMAT 7801-D-1222 
AMAT 0020-39087 
AMAT 3200-00004 