产品名称腔体底部防护屏蔽组件产品简介该组件安装于工艺腔体底部，用于防护底部电极、真空管路与排气系统，阻挡等离子体与反应物溅射污染，同时均匀化底部气流，保障工艺稳定性。技术规格
- 材质：高纯度阳极氧化铝 / 不锈钢复合结构
- 表面处理：抗等离子体腐蚀涂层，耐长期轰击
- 结构形式：多孔屏蔽 + 导流复合结构
- 尺寸精度：与腔体底部、电极精准配合
- 耐温范围：-20℃～300℃
- 洁净等级：高洁净，易清洁、不易附着污染物功能特点
- 有效阻挡等离子体与反应物溅射，保护底部核心部件
- 均匀化底部气流，优化腔体内部流场分布
- 耐等离子体腐蚀，使用寿命长，降低维护成本
- 结构强度高，抗冲击、不易变形
- 表面光滑，不易吸附反应物，清洁维护便捷
- 安装定位精准，可快速替换应用场景
- 等离子体刻蚀、沉积设备腔体底部防护
- 半导体工艺腔体排气系统前端防护
- 底部电极、真空管路防护
- 适配 Endura、Centura 等主流半导体设备平台
AMAT 0140-15214 
AMAT 0020-97794 
AMAT 0010-09301 