产品名称：13.56MHz 射频电源模块产品简介：专为半导体真空工艺腔室设计的高频功率供给单元，用于等离子体激发与维持，保障薄膜沉积、刻蚀等工艺稳定运行。技术规格：
- 工作频率：13.56MHz（工业标准射频频段）
- 输出功率：0–1250W 连续可调，峰值功率 1500W
- 供电输入：208/240VAC，三相，50/60Hz
- 阻抗匹配：自动匹配网络，适配 50Ω 负载，驻波比 < 1.2:1
- 控制接口：RS-232/485、模拟量 0–10V、数字 I/O功能特点：
- 输出稳定度：功率波动 < ±1%，长期稳定性优异
- 保护机制：过流、过压、过热、驻波比超限多重保护
- 谐波抑制：二次谐波 < -40dBc，电磁兼容性强
- 远程监控：支持实时功率、电压、电流、温度数据采集应用场景：
- PVD 物理气相沉积（Endura、Centura 平台）
- PECVD 等离子体增强化学气相沉积（Producer 平台）
- 干法刻蚀（Centura DPS、Centura MxP）
- 离子注入、ALD 原子层沉积等半导体前道制程
AMAT 0010-09395 
AMAT 6C50SHCS 
AMAT DIP-510-005 
AMAT 0041-76691 