产品名称：真空腔室屏蔽内衬组件产品简介：安装于半导体工艺腔室内壁的一体化防护与屏蔽结构件，用于隔离等离子体、抑制射频干扰、降低金属污染，保障制程稳定性与晶圆良率。技术规格
- 材质：高纯阳极氧化铝
- 表面粗糙度：Ra＜0.4μm
- 耐温区间：-20℃～350℃
- 检漏等级：＜1×10⁻¹⁰ atm・cc/s
- 结构：一体式成型无拼接功能特点
- 高效阻挡等离子体溅射侵蚀，延长腔室寿命
- 低释气、高洁净度，无金属离子析出
- 具备射频屏蔽能力，减少工艺异常放电
- 拆装定位精准，可重复清洗复用
- 耐氟基、氧基等离子体腐蚀，使用寿命稳定应用场景
- 电容耦合 / 电感耦合等离子体刻蚀设备
- PVD、PECVD、ALD 等真空工艺腔室
- 200mm/300mm 晶圆前道制程
- 高洁净度真空腔室内壁防护
AMAT 0010-09395 
AMAT 6C50SHCS 
AMAT DIP-510-005 
AMAT 0041-76691 